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              13311665350

              產品中心

              PRODUCTS CNTER

              當前位置:首頁產品中心管式爐系列CVD/PECVD系統化學氣相沉積爐(CVD系統)

              化學氣相沉積爐(CVD系統)

              產品簡介

              這款CVD系統集真空管式爐,多通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產(有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。

              產品型號:
              更新時間:2023-10-30
              廠商性質:生產廠家
              訪問量:11468
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               一、產品應用

                高真空CVD系統是一款專業在沉底材料上生長高質量石墨烯、碳納米管、碳化硅的設備,廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。 

              CVD系統

              CVD系統

               

              二、產品特點

                高真空CVD系統主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統、分子泵機組、自動化控制系統、冷卻系統等組成。

              1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

              2、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環境;

              3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場均勻,能耗低;

              4、密封法蘭均采用不銹鋼材質,配水冷套,可連續長時間工作;

              5、氣路系統采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統;

              6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

              7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數,自動保存實驗參數,也可采用手動控制; 

              8、系統采用集成化設計,控制系統、混氣罐、質量流量計等均內置在箱體內部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。

              三、技術參數 

               

              型號

               

               

              HTF1200-2.5/20-2F-LV

               

              HTF1200-5/20-4F-HV

               

              HTF1200-6/40-2M-LV 

               

               

              HTF1200-8/40-4M-HV 

               

               

              設計溫度(℃)

               

              1200 

               

               

              1200 

               

               

              1200 

               

               

              1200 

               

               

              控溫精度(℃)

               

              ±1 

               

               

              ±1  

               

               

              ±1  

               

               ±1 

               

               加熱區直徑(mm)

               

              25 

               

               

              50 

               

               

              60 

               

               

              80 

               

               

               加熱區長度(mm)

               

              200 

               

               

              200 

               

               

              400 

               

               

              400 

               

               

               加熱管長度(mm)

               

              450 

               

               

              450 

               

               

              1000 

               

               

              1000 

               

               

               恒溫區長度(mm)

               

              80 

               

               

              80 

               

               

              150 

               

               

              150 

               

               

              額定電壓(V)

               

              220 

               

               

              220 

               

               

              220 

               

               

              220 

               

               

              額定功率(KVA)

               

              1.2 

               

               

              1.2 

               

               

               

               

               

               

              真空機組

               

              HTF-101 

               

               

              HTF-103 

               

               

              HTF-101 

               

               

              HTF-103 

               

               

              供氣系統

               

              HTF-2F 

               

               

              HTF-4F 

               

               

              HTF-2M 

               

               

              HTF-4M 

               

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